蚀刻是光电子器件制造中的一个关键步骤，因为它能够开发其操作所需的复杂的微米结构和纳米结构。采用蚀刻来建立谐振孔径，这对于在谐振器生产过程中增强光信号至关重要。在滤光器的制造中，使用蚀刻来产生带通滤波器，该带通滤波器负责滤除特定波长的光。
气体辅助蚀刻有哪些不同的方法？
在光子学制造中有几种气体辅助蚀刻的方法。气体辅助离子束蚀刻有三种广泛使用的方法：标准聚焦离子束蚀刻（FIBE）、反应离子束蚀刻（RIBE）和化学辅助离子束蚀刻（CAIBE）。
气体辅助聚焦离子束刻蚀工艺
聚焦离子束（FIB）是一种有效的技术组成部分，促进了包括纳米技术、材料科学和微电子工业在内的许多研究领域中微纳米系统的实现和研究的科学技术进步。
利用FIB处理，可以通过离子研磨引发的材料去除或通过离子束和气体前体的相互作用引发的局部沉积来产生复杂的纳米结构。值得注意的是，这项技术适用于纳米光子学感兴趣的材料族，即导电金属，以及绝缘和低损耗电介质。